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激光熔覆設(shè)備介紹及激光熔覆的過程

添加時間:2019-05-05 點擊量:13566

第三代半導體激光器,高度集成,體積小、重量輕、壽命長、電光轉(zhuǎn)換效率高(為40-50%左右,美 國相干公司已超過55%)。是CO2激光器的4-5倍。功率可達1000-1000W左右,波長短,易被金屬表面吸收。激光器本身在壽命周期內(nèi)無耗材,無需維護。光能既可直接輸出,也能通過光纖傳導輸出。可靈活地可到大型設(shè)備現(xiàn)場或到復雜的設(shè)備內(nèi)部工作,應(yīng)用特別廣泛、方便、靈活。

幾種常用激光熔覆設(shè)備的對比:

(1)10千瓦CO2熔覆設(shè)備

電光轉(zhuǎn)接效率:8%;生產(chǎn)效率:1m2/6.5小時;

(2)德國萊慧蘭公司10千瓦熔覆設(shè)備

電光轉(zhuǎn)換效率:42%;生產(chǎn)效率:1m2/1.7小時;

(3)美 國相干公司10千瓦熔覆沒備

電光轉(zhuǎn)換效率:55%;生產(chǎn)效率:1m2/1.0小時;

我公司使用的激光熔覆成套設(shè)備,搭載美 國COHERNET(相干)公司4000-8000W半導休激光系統(tǒng),其中,激光發(fā)生器、激光電源、控制部分等由美 國直接進品,從而保證了整個系統(tǒng)的先進性、可靠性和很高的熔覆效率,光斑尺寸1*18mm和2*30mm。

激光熔覆過程

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